應用范圍
本霍爾離子源用于真空鍍膜過程中基底離子轟擊清潔及沉積過程中離子轟擊能量輸送。廣泛應用于:增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學、高反鏡、熱/冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器、在線清洗等。能夠改善薄膜的生長，優化薄膜結構，增加鍍膜的一致性和重復性，低溫高速率鍍膜，清除工件表面水和碳氫化合物，增加薄膜密度，清除結合力弱的分子，反應氣體活度增加，薄膜成分易于控制。
產品特點
霍爾等離子體離子源，適合輔助鍍膜工藝要求，其突出的特點是小型化、結構緊湊、易于拆裝。在制造高質量的光學薄膜時它對改進膜的附著力、致密度、吸收度、折射率有所貢獻。JK-530N型霍爾離子源直徑$16.2cm，采用永久磁鐵并利用極靴，沿軸向產生較大梯度的磁場，在環狀的霍爾電流作用下，離子沿軸向加速形成離子束。離子東具有較大的能散度及較大的發散角，水冷陽極可有效降低離子源及工件表面的溫度。該離子源電源結構簡單，可以實現輔助鍍膜所需要的大均勻區的離子東流。單臺離子源就可以滿足600mm-1600mm鍍膜機的離子束輔助鍍膜需要。
