技術指標及使用要求:
1、陽極最大電壓:300V;陽極最大工作電流10A
2、發射極最大電壓:100V;最大工作電流13A
3、維持極最大電壓:1500V;最大工作電流2000mA
4、輸入電網電壓:AC220V±10%最大電流AC25A
5、離子出射角:60°，出射口直徑45mm
6、中和器鉭管工作壽命:80-200小時(根據使用條件確定)
7、中和器使用氣體:純Ar，純度>99.999%;
8、陰極最大流量:50sccm，壓強≤0.2MPa(建議恒定在0.2MPa
9、源頭氣體流量:50sccm+50sccm，壓強≤0.2MPa
10、工作環境真空度:5*10-2Pa-5*10-3Pa
11、冷卻水壓強:20.3Mpa，請使用純凈水或過濾水
12、冷卻水溫度:≤20C°內工作。
中空陰極霍爾離子源廣泛應用于:增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學、高反鏡熱/冷反光鏡、在線清洗等。具有大電流密集性、全束電流和低能量束的特性優化了對各種性能的提高和反應過程。特別適合在工業上的真空應用,能夠改善薄膜的生長、優化薄膜結構，增加鍍膜的一致性和重復性，低溫高速率鍍膜，清除工件表面水和碳氫化合物，增加薄膜密度，降低內應力低，清除結合力弱的分子，反應氣體活度增加，膜成分易于控制。包括如下:
預清潔-低能量離子束預先清洗和去除表面污染物(水蒸汽、碳氫化合物、天然氧化合物和吸收性材料),以提高薄膜/基層物的附著性。
離子輔助沉積-離子轟擊基片有助于薄膜的生長、提高附著力和硬度,同時減少吸收性殘余氣體的污染物和薄膜應力。
充分借鑒國內外先進的霍爾離子源的優點，具有獨特的水冷和密封結構，經多次長時間的實驗證明，離子源能夠在很大的等離子體束流下長期穩定工作
